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    鎂合金氧化的復雜性介紹
    - 2021-02-24-

    鎂合金氧化膜可以通過產生光學干涉的效果進行著色,這需要仔細控制膜厚和折射率。這樣的膜層在耐光性方面極其有效,但有機染料容易受到紫外線的影響。在鎂的硫酸陽極氧化過程中形成的多孔結構在電解液中部分溶解,結果孔徑約為0.1微米。

    鎂合金氧化的成膜機理比鋁復雜,因為涉及堿性電解質溶液中相當高的電壓電流操作和固有的火花放電現象。發生火花放電現象時,陽極表面局部高溫(高達1500攝氏度),因此促進化學、電化學反應的激發態物質較多,并涉及熔融、堆積等物理、化學(電化、熱化、等離子化等)過程。另一方面,由于基體可能不在鎂中溶解,或者溶液中的電解質進入膜層,所以鎂的陽極氧化工藝變得相當復雜。

    關于鎂陽極氧化成膜機理的提法很多,火花放電現象是施加電壓高于電極表面現有膜層破壞電壓的結果。陽極氧化工藝包括通過火花放電熔化金屬表面現有的膜層,以及溶液中電解質在電極表面的火花沉積。陽極氧化過程中的火花放電現象和結晶現象(即陽極氧化過程中膜從非晶狀態變化為結晶狀態的現象),起因于陽極氧化過程中的電子放電,由于火花放電前偶然的電子放電在電極表面生成的薄而致密的非晶氧化物膜的局部熱,產生了小范圍的結晶。

    以上就是鎂合金氧化的復雜性介紹,感謝閱讀。


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